Инженер по проектированию фотошаблонов субмикронного и наноразмерного уровней (7 уровень квалификации)
7
Трудовые действия
1 . Изучение документации и проведение анализа возможностей специализированных программных платформ и спецификации технологического оборудования для проектирования фотошаблонов
2 . Проведение анализа базовой информации (техническое задание, спецификации, технические требования по проекту) для проектирования фотошаблонов заданного технологического уровня
3 . Формирование перечня компонентов и опций для создания расширяемой структуры системы проектирования (ядра) фотошаблонов, обусловленного технико-экономическими возможностями выбранных программных платформ
4 . Определение возможности наличия критических слоев в комплекте фотошаблонов для заданного технологического уровня
5 . Формирование специфических требований к литографии для всех критических слоев заданного технологического уровня
6 . Разработка детального описания этапов маршрута проектирования для каждого технологического слоя, включая разделение технологических слоев на группы (простая технологическая коррекция, коррекция эффектов оптической близости на основе эмпирических правил и на основе моделей)
7 . Формирование служебной технологической информации, состоящей из знаков базирования установки фотолитографии, маркировки фотошаблонов, штрих-кода и других элементов, необходимых для технологического оборудования
8 . Разработка требований к рамке виртуального прототипа фотошаблона, содержащей служебную технологическую информацию
9 . Разработка рекомендаций по оптимальному размещению топологии кристаллов в заданной области (рамки виртуального прототипа фотошаблона)
10 . Определение требований к программно-аппаратному комплексу проектирования фотошаблонов в соответствии с выбранным набором компонентов и опций специализированных программных платформ
11 . Составление технико-экономического обоснования выбранных программно-аппаратных средств для реализации системы проектирования фотошаблонов
Необходимые умения
1 . Находить решения технических проблем, пользуясь технической документацией и современными информационными технологиями
2 . Проводить полный цикл автоматизированного проектирования фотошаблона
3 . Использовать целевые системы автоматизированного проектирования, программные средства системы автоматизированного проектирования фотошаблонов
4 . Конвертировать имеющийся формат описания топологии в формат литографического оборудования
5 . Проверять ключевые параметры топологии (тональность, критичные элементы, габаритные размеры, метки совмещения, метки проекционной литографии) на соответствие техническому заданию и правилам проектирования
6 . Использовать методы защиты информации; повторно использовать проектную информацию, хранящуюся в базе данных на сервере
7 . Работать с программными продуктами, текстовыми редакторами: операционными системами с сетевыми приложениями
Необходимые знания
1 . Технический английский язык
2 . Технологии производства фотошаблонов и интегральных схем
3 . Типовые маршруты проектирования фотошаблонов в зависимости от технологического уровня
4 . Булевы операции
5 . Программное обеспечение архивации, аварийного восстановления в случае сбоев
6 . Ситуация на мировом рынке фотошаблонов под разные топологические нормы (основные производители, цены, масштаб выпуска)
Трудовые действия
1 . Анализ документации используемого литографического, электронно-лучевого и контрольно-измерительного оборудования с целью определения технических возможностей проектирования и изготовления фотошаблонов с заданными параметрами
2 . Выбор технических средств (или анализ имеющихся параметров) и специального программного обеспечения
3 . Анализ методов и способов коррекции оптических искажений при изготовлении фотошаблонов для заданного технологического уровня
4 . Разработка маршрутных карт, описывающих последовательность технологических операций проектирования фотошаблонов для заданного технологического уровня
Необходимые умения
1 . Использовать методики коррекции оптических эффектов близости, коррекции фазового сдвига
2 . Использовать целевые системы автоматизированного проектирования, формировать необходимые модификации системы автоматизированного проектирования
3 . Определять оптимизированное размещение топологии кристалла с помощью специализированных программных платформ
Необходимые знания
1 . Технический английский язык
2 . Оптика (дифракция, интерференция, основы фурье-оптики)
3 . Литографический процесс, особенности конкретного оборудования фотолитографии
4 . Целевые системы автоматизированного проектирования
5 . Методика проектирования фотошаблонов
6 . Особенности конкретного оборудования, используемого для фотолитографии
7 . Методики верификации фотошаблонов
8 . Возможности скриптовых языков
9 . Технологии выполнения коррекции эффектов оптической близости
Проектирование фотошаблонов и подготовка управляющей информации для их изготовления
Приказ Министерства труда и социальной защиты РФ от «10» июля 2014 г. №455н
−
−
1. −
1. 1. Документ, подтверждающий наличие высшего образования не ниже уровня специалитета и магистратуры. по одному из направлений: «Электроника и микроэлектроника»; «Электроника и наноэлектроника»; «Нанотехнологии и микросистемная техника»; «Информатика и вычислительная техника»
2. 2. Документ, подтверждающий наличие опыта работы не менее трех лет в области проектирования фотошаблонов
ИЛИ
1. 1. Документ, подтверждающий наличие высшего образования не ниже специалитета и магистратуры
2. 2. Документ о профессиональной переподготовке, подтверждающий освоение искомой квалификации
3. 3. Документ, подтверждающий наличие опыта работы не менее трех лет в области проектирования фотошаблонов
5 лет
Номер | Адрес проведения экзамена |
---|---|
77.022.23.02 |
г Краснодар, ул Ставропольская, д 149 |
77.022.77.01 |
г Зеленоград, проезд Западный 1-й, д 12 стр 1 |
Text