Инженер по проектированию фотошаблонов субмикронного и наноразмерного уровней (7 уровень квалификации)

Трудовые действия

1 . Изучение документации и проведение анализа возможностей специализированных программных платформ и спецификации технологического оборудования для проектирования фотошаблонов

2 . Проведение анализа базовой информации (техническое задание, спецификации, технические требования по проекту) для проектирования фотошаблонов заданного технологического уровня

3 . Формирование перечня компонентов и опций для создания расширяемой структуры системы проектирования (ядра) фотошаблонов, обусловленного технико-экономическими возможностями выбранных программных платформ

4 . Определение возможности наличия критических слоев в комплекте фотошаблонов для заданного технологического уровня

5 . Формирование специфических требований к литографии для всех критических слоев заданного технологического уровня

6 . Разработка детального описания этапов маршрута проектирования для каждого технологического слоя, включая разделение технологических слоев на группы (простая технологическая коррекция, коррекция эффектов оптической близости на основе эмпирических правил и на основе моделей)

7 . Формирование служебной технологической информации, состоящей из знаков базирования установки фотолитографии, маркировки фотошаблонов, штрих-кода и других элементов, необходимых для технологического оборудования

8 . Разработка требований к рамке виртуального прототипа фотошаблона, содержащей служебную технологическую информацию

9 . Разработка рекомендаций по оптимальному размещению топологии кристаллов в заданной области (рамки виртуального прототипа фотошаблона)

10 . Определение требований к программно-аппаратному комплексу проектирования фотошаблонов в соответствии с выбранным набором компонентов и опций специализированных программных платформ

11 . Составление технико-экономического обоснования выбранных программно-аппаратных средств для реализации системы проектирования фотошаблонов

Необходимые умения

1 . Находить решения технических проблем, пользуясь технической документацией и современными информационными технологиями

2 . Проводить полный цикл автоматизированного проектирования фотошаблона

3 . Использовать целевые системы автоматизированного проектирования, программные средства системы автоматизированного проектирования фотошаблонов

4 . Конвертировать имеющийся формат описания топологии в формат литографического оборудования

5 . Проверять ключевые параметры топологии (тональность, критичные элементы, габаритные размеры, метки совмещения, метки проекционной литографии) на соответствие техническому заданию и правилам проектирования

6 . Использовать методы защиты информации; повторно использовать проектную информацию, хранящуюся в базе данных на сервере

7 . Работать с программными продуктами, текстовыми редакторами: операционными системами с сетевыми приложениями

Необходимые знания

1 . Технический английский язык

2 . Технологии производства фотошаблонов и интегральных схем

3 . Типовые маршруты проектирования фотошаблонов в зависимости от технологического уровня

4 . Булевы операции

5 . Программное обеспечение архивации, аварийного восстановления в случае сбоев

6 . Ситуация на мировом рынке фотошаблонов под разные топологические нормы (основные производители, цены, масштаб выпуска)

Трудовые действия

1 . Анализ документации используемого литографического, электронно-лучевого и контрольно-измерительного оборудования с целью определения технических возможностей проектирования и изготовления фотошаблонов с заданными параметрами

2 . Выбор технических средств (или анализ имеющихся параметров) и специального программного обеспечения

3 . Анализ методов и способов коррекции оптических искажений при изготовлении фотошаблонов для заданного технологического уровня

4 . Разработка маршрутных карт, описывающих последовательность технологических операций проектирования фотошаблонов для заданного технологического уровня

Необходимые умения

1 . Использовать методики коррекции оптических эффектов близости, коррекции фазового сдвига

2 . Использовать целевые системы автоматизированного проектирования, формировать необходимые модификации системы автоматизированного проектирования

3 . Определять оптимизированное размещение топологии кристалла с помощью специализированных программных платформ

Необходимые знания

1 . Технический английский язык

2 . Оптика (дифракция, интерференция, основы фурье-оптики)

3 . Литографический процесс, особенности конкретного оборудования фотолитографии

4 . Целевые системы автоматизированного проектирования

5 . Методика проектирования фотошаблонов

6 . Особенности конкретного оборудования, используемого для фотолитографии

7 . Методики верификации фотошаблонов

8 . Возможности скриптовых языков

9 . Технологии выполнения коррекции эффектов оптической близости